Priser og downloadplaner
  • Fotos
  • Redaktionelt
  • Illustrationer
  • Vektorer
  • Videoer
  • Lyd

Biret Vektorer Og Grafik

46 biret vektorer, clipart, ikoner, baggrunde og grafiske designs – klar til Royalty Free-download fra Dreamstimes kreative bidragydere.

Gratis med prøveperiode
Transparent polyethylenfilm. Krøllet plastfolie. Realistisk cellofan tekstur på transparent baggrund. Grafisk element af polyethylen- eller cellofanstrækfilm med folder. Vektor.
Transparent polyethylenfilm. Krøllet plastfolie. Realistisk cellofan tekstur på transparent baggrund. Grafisk element af polyethylen- eller cellofanstrækfilm med folder. Vektor.

Transparent polyethylenfilm. Krøllet plastfolie. Realistisk cellofan tekstur på transparent baggrund. Designelement. Transparent polyethylenfilm. Krøllet plastfolie. Realistisk cellofan tekstur på transparent baggrund. Grafisk element af polyethylen- eller cellofanstrækfilm med folder. Vektor

Gratis med prøveperiode
Atomlagdeposition: et lineært ikon for den cykliske teknik, der får ultratynde film til at vokse et atomlag ad gangen. En ring af fire medurs pile forbinder trinene i en enkelt cyklus. Øverst repræsenterer en trearmet precursor-molekyle den første reaktantpuls, i bunden repræsenterer en mindre buet molekyle den anden.
Atomlagdeposition: et lineært ikon for den cykliske teknik, der får ultratynde film til at vokse et atomlag ad gangen. En ring af fire medurs pile forbinder trinene i en enkelt cyklus. Øverst repræsenterer en trearmet precursor-molekyle den første reaktantpuls, i bunden repræsenterer en mindre buet molekyle den anden.

Atomlagdeposition (ALD). Skiftende precursorimpulser og skylninger får en tynd film til at vokse et atomlag ad gangen. Atomlagdeposition: et lineært ikon for den cykliske teknik, der får ultratynde film til at vokse et atomlag ad gangen. En ring af fire medurs pile forbinder trinene i en enkelt cyklus. Øverst repræsenterer en trearmet precursor-molekyle den første reaktantpuls, i bunden repræsenterer en mindre buet molekyle den anden.

Gratis med prøveperiode
Fotoresistlag: linjetegningsikon, der viser, hvordan en lysfølsom belægning påføres i fotolitografi. En doseringsdyse øverst frigiver en dråbe flydende resist mod midten af en siliciumwafer med indhak. Buede pile på hver side viser, at substratet roterer med høj hastighed, hvilket spreder polymeren udad til en tynd, ensartet film og th.
Fotoresistlag: linjetegningsikon, der viser, hvordan en lysfølsom belægning påføres i fotolitografi. En doseringsdyse øverst frigiver en dråbe flydende resist mod midten af en siliciumwafer med indhak. Buede pile på hver side viser, at substratet roterer med høj hastighed, hvilket spreder polymeren udad til en tynd, ensartet film og th.

Fotoresistlag - resistdråbe afgivet på en roterende siliciumwafer, spin coating-linje ikon. Fotoresistlag: linjetegningsikon, der viser, hvordan en lysfølsom belægning påføres i fotolitografi. En doseringsdyse øverst frigiver en dråbe flydende resist mod midten af en siliciumwafer med indhak. Buede pile på hver side viser, at substratet roterer med høj hastighed, hvilket spreder polymeren udad til en tynd, ensartet film og th

Gratis med prøveperiode
Hård maske: linjekunst-ikon af den holdbare mellemlag, der beskytter en wafer under dyb plasmaætsning. Moderne fotoresist er for tyndt og blødt til at overleve en lang reaktiv ionætsning, så dets mønster kopieres først til et uorganisk lag som siliciumnitrid, siliciumdioxid, titannitrid eller amorf kulstof.
Hård maske: linjekunst-ikon af den holdbare mellemlag, der beskytter en wafer under dyb plasmaætsning. Moderne fotoresist er for tyndt og blødt til at overleve en lang reaktiv ionætsning, så dets mønster kopieres først til et uorganisk lag som siliciumnitrid, siliciumdioxid, titannitrid eller amorf kulstof.

Hård maske: et ætsebestandigt lag stopper plasmaioner, mens åbne områder ætses til dybe render, linjeikon. Hård maske: linjekunst-ikon af den holdbare mellemlag, der beskytter en wafer under dyb plasmaætsning. Moderne fotoresist er for tyndt og blødt til at overleve en lang reaktiv ionætsning, så dets mønster kopieres først til et uorganisk lag som siliciumnitrid, siliciumdioxid, titannitrid eller amorf kulstof

Gratis med prøveperiode
Linjeikon af kemisk dampaflejring (CVD), processen der dyrker tynde film fra reaktive gasser. Prækursorgas træder ind i et kammer gennem en indløb og et perforeret brusehoved, og driver derefter ned som toatomige molekyler mod en wafer, der hviler på en spoleopvarmet plade.
Linjeikon af kemisk dampaflejring (CVD), processen der dyrker tynde film fra reaktive gasser. Prækursorgas træder ind i et kammer gennem en indløb og et perforeret brusehoved, og driver derefter ned som toatomige molekyler mod en wafer, der hviler på en spoleopvarmet plade.

Kemisk dampaflejring (CVD). Prækursorgas reagerer på en opvarmet wafer for at opbygge en tynd film, linjeikon. Linjeikon af kemisk dampaflejring (CVD), processen der dyrker tynde film fra reaktive gasser. Prækursorgas træder ind i et kammer gennem en indløb og et perforeret brusehoved, og driver derefter ned som toatomige molekyler mod en wafer, der hviler på en spoleopvarmet plade.

Gratis med prøveperiode
Dielektrisk lag: linjekunstikon af den isolerende film, der holder naboledere adskilt på en chip. To solide plader, hver forbundet til en terminal, holder modsat ladning vist af plus- og minusudskæringer. Imellem dem sidder filmen, afgrænset af sidevægge, med otte ovale atomer tegnet som dipoler.
Dielektrisk lag: linjekunstikon af den isolerende film, der holder naboledere adskilt på en chip. To solide plader, hver forbundet til en terminal, holder modsat ladning vist af plus- og minusudskæringer. Imellem dem sidder filmen, afgrænset af sidevægge, med otte ovale atomer tegnet som dipoler.

Dielektrisk lag, isolerende film mellem to ledere, med justerede dipoler der viser polarisering, linjeikon. Dielektrisk lag: linjekunstikon af den isolerende film, der holder naboledere adskilt på en chip. To solide plader, hver forbundet til en terminal, holder modsat ladning vist af plus- og minusudskæringer. Imellem dem sidder filmen, afgrænset af sidevægge, med otte ovale atomer tegnet som dipoler.

Gratis med prøveperiode
Ætse Stop Lag: en begravet barrierefilm der stopper ætsningen ved en defineret dybde. Tre pile nedad krydser mållaget og ender i flade stopstænger på et solidt bånd, mens en dimensionsholder markerer den dybde, den sætter. Da filmen ætser meget langsommere end materialet ovenover, kan ingeniører sikkert overætse og stadig lande hver funktion på en.
Ætse Stop Lag: en begravet barrierefilm der stopper ætsningen ved en defineret dybde. Tre pile nedad krydser mållaget og ender i flade stopstænger på et solidt bånd, mens en dimensionsholder markerer den dybde, den sætter. Da filmen ætser meget langsommere end materialet ovenover, kan ingeniører sikkert overætse og stadig lande hver funktion på en.

Ætse Stop Lag: Begravet barrierefilm der stopper ætsefronten ved en defineret dybde i halvleder wafer behandling. Ætse Stop Lag: en begravet barrierefilm der stopper ætsningen ved en defineret dybde. Tre pile nedad krydser mållaget og ender i flade stopstænger på et solidt bånd, mens en dimensionsholder markerer den dybde, den sætter. Da filmen ætser meget langsommere end materialet ovenover, kan ingeniører sikkert overætse og stadig lande hver funktion på en

Gratis med prøveperiode
Linjekunst ikon for et epitaksialt lag: en silicium wafer med hak med tynde krystallag vokset ovenpå, et bundet atomgitter over overfladen og siliciumatomer der kommer oppefra. Viser hvordan epitaksi udvider waferens enkeltkrystal for at danne et rent enhedslag. Schematisk illustration, ikke i skala.
Linjekunst ikon for et epitaksialt lag: en silicium wafer med hak med tynde krystallag vokset ovenpå, et bundet atomgitter over overfladen og siliciumatomer der kommer oppefra. Viser hvordan epitaksi udvider waferens enkeltkrystal for at danne et rent enhedslag. Schematisk illustration, ikke i skala.

Linjeikon epitaksialt lag, silicium wafer krystalvækst, halvleder-serie. Linjekunst ikon for et epitaksialt lag: en silicium wafer med hak med tynde krystallag vokset ovenpå, et bundet atomgitter over overfladen og siliciumatomer der kommer oppefra. Viser hvordan epitaksi udvider waferens enkeltkrystal for at danne et rent enhedslag. Schematisk illustration, ikke i skala.

Gratis med prøveperiode
Ætse Selektivitet: Linjekunstikon for egenskaben, der giver en fabrik mulighed for at rense en film, mens det tilstødende materiale skånes. To blokke deler et substrat og modtager et identisk ionbad. Til venstre bevæger pilene sig nedad i det tomme rum, og en stiplet linje markerer, hvor målet stod, før det meste af det blev fjernet.
Ætse Selektivitet: Linjekunstikon for egenskaben, der giver en fabrik mulighed for at rense en film, mens det tilstødende materiale skånes. To blokke deler et substrat og modtager et identisk ionbad. Til venstre bevæger pilene sig nedad i det tomme rum, og en stiplet linje markerer, hvor målet stod, før det meste af det blev fjernet.

Ætse Selektivitet: Samme ioner rammer to materialer, målet ætses dybt, naboen forbliver intakt, linjeikon. Ætse Selektivitet: Linjekunstikon for egenskaben, der giver en fabrik mulighed for at rense en film, mens det tilstødende materiale skånes. To blokke deler et substrat og modtager et identisk ionbad. Til venstre bevæger pilene sig nedad i det tomme rum, og en stiplet linje markerer, hvor målet stod, før det meste af det blev fjernet.

Gratis med prøveperiode
Physical Vapour Deposition (PVD). Rent teknisk ikon for magnetronsputtering. Positive argon-ioner accelereres mod et fast metalmål, hvilket skaber erosionsriller i form af en racerbane under magneterne. Løsrevne atomer flyver i rette linjer og lægger sig som en tynd belægning på en siliciumwafer.
Physical Vapour Deposition (PVD). Rent teknisk ikon for magnetronsputtering. Positive argon-ioner accelereres mod et fast metalmål, hvilket skaber erosionsriller i form af en racerbane under magneterne. Løsrevne atomer flyver i rette linjer og lægger sig som en tynd belægning på en siliciumwafer.

Argon-ioner via Physical Vapour Deposition (PVD) sputter et metalmål, som belægger en siliciumwafer med en tynd film. Physical Vapour Deposition (PVD). Rent teknisk ikon for magnetronsputtering. Positive argon-ioner accelereres mod et fast metalmål, hvilket skaber erosionsriller i form af en racerbane under magneterne. Løsrevne atomer flyver i rette linjer og lægger sig som en tynd belægning på en siliciumwafer

Gratis med prøveperiode
Termisk Oxidation: linjekunstikon for ovnprocessen, der omdanner overfladen af en siliciumwafer til siliciumdioxid. Varmeelementer omgiver kammeret ved cirka 800 til 1200 grader Celsius, og iltmolekyler eller damp ved våd oxidation ankommer til for- og bagside.
Termisk Oxidation: linjekunstikon for ovnprocessen, der omdanner overfladen af en siliciumwafer til siliciumdioxid. Varmeelementer omgiver kammeret ved cirka 800 til 1200 grader Celsius, og iltmolekyler eller damp ved våd oxidation ankommer til for- og bagside.

Termisk Oxidation: linjeikon for siliciumdioxid, der vokses fra en wafers egen silicium i en varm iltovn, linjeikon. Termisk Oxidation: linjekunstikon for ovnprocessen, der omdanner overfladen af en siliciumwafer til siliciumdioxid. Varmeelementer omgiver kammeret ved cirka 800 til 1200 grader Celsius, og iltmolekyler eller damp ved våd oxidation ankommer til for- og bagside.

Gratis med prøveperiode
En stiliseret, flad visning viser en menneskehånd, der forsigtigt skræller en tynd, lysefarvet beskyttelsesfilm eller klæbelag fra en mørkegrå rektangulær overflade. Perspektivet er isometrisk, hvilket fremhæver handlingen med at fjerne et beskyttende dække for at afsløre overfladen nedenunder.
En stiliseret, flad visning viser en menneskehånd, der forsigtigt skræller en tynd, lysefarvet beskyttelsesfilm eller klæbelag fra en mørkegrå rektangulær overflade. Perspektivet er isometrisk, hvilket fremhæver handlingen med at fjerne et beskyttende dække for at afsløre overfladen nedenunder.

En hånd fjerner forsigtigt beskyttelsesfilmen fra en silikoneklæbepude for nem installation og brug på hjemmesider og mobile enhed. En stiliseret, flad visning viser en menneskehånd, der forsigtigt skræller en tynd, lysefarvet beskyttelsesfilm eller klæbelag fra en mørkegrå rektangulær overflade. Perspektivet er isometrisk, hvilket fremhæver handlingen med at fjerne et beskyttende dække for at afsløre overfladen nedenunder.

Gratis med prøveperiode
En flad visning af en menneskehånd, der skræller en tynd beskyttelsesfilm eller skærmbeskyttelse af en flad, mørkegrå overflade. Perspektivet er isometrisk, hvilket fremhæver handlingen med at fjerne et lag for at afsløre en renere overflade nedenunder. Denne grafik er velegnet til begreber relateret til skærmvedligeholdelse, produktudpakning, installationsprocesser og teknologi.
En flad visning af en menneskehånd, der skræller en tynd beskyttelsesfilm eller skærmbeskyttelse af en flad, mørkegrå overflade. Perspektivet er isometrisk, hvilket fremhæver handlingen med at fjerne et lag for at afsløre en renere overflade nedenunder. Denne grafik er velegnet til begreber relateret til skærmvedligeholdelse, produktudpakning, installationsprocesser og teknologi.

Fjernelse af beskyttelsesfilm fra en silikoneklæbepude for nem installation og brug i kommercielt design. En flad visning af en menneskehånd, der skræller en tynd beskyttelsesfilm eller skærmbeskyttelse af en flad, mørkegrå overflade. Perspektivet er isometrisk, hvilket fremhæver handlingen med at fjerne et lag for at afsløre en renere overflade nedenunder. Denne grafik er velegnet til begreber relateret til skærmvedligeholdelse, produktudpakning, installationsprocesser og teknologi.